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  • 加熱臺

    加熱臺主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發鍍膜儀的樣品臺的加熱。

    更新日期:2016-03-22
    型號:
    廠商性質:生產廠家
  • 密封裝置

    密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件,安裝孔徑為19.2mm。

    更新日期:2016-03-22
    型號:
    廠商性質:生產廠家
  • 不銹鋼彎頭

    不銹鋼彎頭共2個接口,兩接口為90°垂直且共面分布,主要用于連接真空腔室與相關配件。

    更新日期:2016-04-05
    型號:
    廠商性質:生產廠家
  • 四通閥

    四通閥包含3個接口、1個閥門,呈垂直且共面分布,其中2個KF40接口、1個KF25接口(可根據用戶要求改制),主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規管,如磁控濺射儀、蒸發鍍膜儀的高真空腔室。

    更新日期:2016-03-22
    型號:
    廠商性質:生產廠家
  • VTC-16-3HD3靶等離子濺射儀

    VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),控制面板采用觸摸屏模式,基片極限尺寸為2″,放置樣品的直徑為Ø50mm,加熱溫度達500℃。可濺射金、銀、銅三種靶材,不可以濺射輕金屬和碳。本機采用旋轉式樣品臺,能夠依次在同一樣品上涂覆三層薄膜,適用于實驗室制備復膜的樣品。采用PLC控制面

    更新日期:2022-09-16
    型號:VTC-16-3HD
    廠商性質:生產廠家
  • GSL-1100X-SPC-12GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀

    GSL-1100X-SPC-12等離子薄膜濺射儀專門為在基底上鍍金屬膜(如金、鉑、銦、銀等)而設計,Z大放置樣品尺寸直徑為40mm,膜厚可達300Å,特別適用于為SEM樣品鍍金而作為導電極。

    更新日期:2016-04-05
    型號:GSL-1100X-SPC-12
    廠商性質:生產廠家
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